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兆聲無(wú)損清洗設(shè)備不僅保存了超聲波清洗的優(yōu)點(diǎn)，而且克服了它的不足。兆聲無(wú)損清洗設(shè)備理由是由高頻振效應(yīng)并結(jié)合化學(xué)清洗劑的化學(xué)反應(yīng)對(duì)硅片進(jìn)行清洗的。在清洗時(shí)，由換能器發(fā)出波長(zhǎng)為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動(dòng)下作加速運(yùn)動(dòng)，zui大瞬時(shí)速度可達(dá)到30cm/s。因此，形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細(xì)小微粒被強(qiáng)制除去并進(jìn)入到清洗液中。如何選購(gòu)兆聲無(wú)損清洗設(shè)備，隨著“以養(yǎng)代修”理念的深進(jìn)推廣，為了進(jìn)步發(fā)...

微波等離子去膠機(jī)操作規(guī)程：1、自動(dòng)切割小車應(yīng)經(jīng)空車運(yùn)轉(zhuǎn)，并選定切割速度；2、使用釷、鎢電極應(yīng)符合JGJ33-2001第12.7.8條規(guī)定；3、高頻發(fā)生器應(yīng)設(shè)有屏蔽護(hù)罩，用高頻引弧后，應(yīng)立即切斷高頻電路；4、應(yīng)檢查并確認(rèn)電源、氣源、水源無(wú)漏電、漏氣、漏水，接地或接零安全可靠；5、操作人員應(yīng)站在上風(fēng)處操作?？蓮墓ぷ髋_(tái)下部抽風(fēng)，并宜縮小操作臺(tái)上的敞開(kāi)面積；6、小車、工件應(yīng)放在適當(dāng)位置，并應(yīng)使工件和切割電路正極接通，切割工作面下應(yīng)設(shè)有溶渣坑；7、微波等離子去膠機(jī)應(yīng)根據(jù)工件材質(zhì)、種類和...

汽輪機(jī)組的熱真空系統(tǒng)是由抽真空系統(tǒng)和密封蒸汽系統(tǒng)兩部分組成，其作用就是用來(lái)建立汽輪機(jī)組的低背壓，也就是用來(lái)建立凝汽器的高真空，使蒸汽能夠zui大限度的把熱焓轉(zhuǎn)變?yōu)槠啓C(jī)的動(dòng)能。在汽輪機(jī)組尚未投入運(yùn)行時(shí)，凝汽器中的真空取決于抽熱真空系統(tǒng)所建立的真空；在汽輪機(jī)組投入運(yùn)行后，抽真空系統(tǒng)只是把泄漏到汽輪機(jī)內(nèi)部的空氣和不凝結(jié)氣體及時(shí)抽走，凝汽器內(nèi)的真空主要取決于進(jìn)入凝汽器內(nèi)的蒸汽與循環(huán)冷卻水的熱交換情況，而蒸汽與循環(huán)冷卻水的熱交換情況主要取決于凝汽器的換熱面積、循環(huán)冷卻水溫度和循環(huán)水量...

兆聲無(wú)損清洗機(jī)不但保存了超聲波清洗的優(yōu)點(diǎn)，而且克服了它的不足。兆聲無(wú)損清洗機(jī)的機(jī)理是由高能(850kHz)頻振效應(yīng)并結(jié)合化學(xué)清洗劑的化學(xué)反應(yīng)對(duì)硅片進(jìn)行清洗的。在清洗時(shí)，由換能器發(fā)出波長(zhǎng)為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動(dòng)下作加速運(yùn)動(dòng)，zui大瞬時(shí)速度可達(dá)到30cm/s。因此，形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細(xì)小微粒被強(qiáng)制除去并進(jìn)入到清洗液中。兆聲無(wú)損清洗機(jī)的特點(diǎn)：兆聲能有效地清除亞微細(xì)顆粒。兆...

微波等離子清洗機(jī)的機(jī)理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來(lái)看，等離子體清洗通常包括以下過(guò)程：無(wú)機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應(yīng)殘余物脫離表面。微波等離子清洗機(jī)技術(shù)的zui大特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實(shí)現(xiàn)整體和...

一．產(chǎn)品結(jié)構(gòu)晶圓清洗機(jī)主要結(jié)構(gòu)特點(diǎn)：1、采用三套獨(dú)立的電腦控制機(jī)械臂自動(dòng)化作業(yè)2、采用第三代技術(shù)，全面完善的防酸防腐措施，保護(hù)到機(jī)器每一個(gè)角落3、全自動(dòng)補(bǔ)液技術(shù)4、*的硅片干燥前處理技術(shù)，保證硅片干燥不留任何水痕5、成熟的硅片干燥工藝，多種先進(jìn)技術(shù)集于一身6、彩色大屏幕人機(jī)界面操作，方便參數(shù)設(shè)置多工藝方式轉(zhuǎn)換二．產(chǎn)品特點(diǎn)晶圓清洗機(jī)具有以下特點(diǎn)：1、械手或多機(jī)械手組合，實(shí)現(xiàn)工位工藝要求。2、PLC全程序控制與觸摸屏操作界面，操作便利。3、自動(dòng)上下料臺(tái)，準(zhǔn)確上卸工件。4、凈化烘干...

微波等離子清洗機(jī)(plasmacleaner)也叫等離子清潔機(jī)，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見(jiàn)的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清潔機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。微波等離子清洗機(jī)在封裝工藝中的應(yīng)用...

單片晶圓清洗機(jī)是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。單片晶圓清洗機(jī)提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對(duì)點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng)，可以zui大程度節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布。單片晶圓清洗機(jī)特點(diǎn)：臺(tái)式系統(tǒng)無(wú)損兆聲掩模版或晶圓片清洗及旋轉(zhuǎn)甩干支持12”直徑的圓片或9”x9”方片...