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光學鍍膜設備是一種用于制造光學器件的關鍵工具。它可以通過在材料表面上涂覆一層特定厚度和折射率的薄膜來改變光的傳播方式和反射率，從而實現(xiàn)調(diào)節(jié)光學器件的性能和功能。核心部分是真空腔室和鍍膜源。在真空腔室中，通過抽取氣體使得其內(nèi)部壓強低于大氣壓，從而避免了材料與環(huán)境氧化和污染。鍍膜源則是通過物理或化學方法產(chǎn)生鍍膜材料蒸汽或離子束，使其在材料表面上沉積形成薄膜。光學鍍膜設備的工作流程如下：（1）準備樣品：清洗樣品表面并放置在真空腔室內(nèi)。（2）真空預處理：打開真空泵，抽出腔室內(nèi)的氣體，...

微波等離子化學氣相沉積（MPCVD）系統(tǒng)是一種用于制備薄膜的先進技術，該技術利用了微波輻射和等離子體化學反應的優(yōu)勢。該系統(tǒng)包括一個微波發(fā)生器、一個反應室、一個氣體供應系統(tǒng)和一個真空泵組成。首先，微波發(fā)生器產(chǎn)生高頻電磁場，并將能量輸送到反應室中，使得氣體分子與微波電場產(chǎn)生相互作用，激發(fā)其內(nèi)部電子從基態(tài)躍遷至激發(fā)態(tài)。這些激發(fā)態(tài)分子會與其他分子發(fā)生碰撞，從而形成等離子體。反應室由不銹鋼材料制成，背面有水冷卻裝置，以控制反應室溫度。室內(nèi)設置有樣品架，樣品架上放置待處理材料。在反應室底...

RIE-PE刻蝕機是一種高精度的半導體加工設備，被廣泛應用于集成電路、MEMS和納米器件制造等領域。RIE-PE刻蝕技術是通過刻蝕氣體的等離子體在材料表面產(chǎn)生化學反應和物理作用，從而實現(xiàn)高精度的微米、亞微米和納米級圖形加工的一種高效的方法?；驹硎抢玫入x子體在氧化物表面引起化學反應的方式進行淺刻蝕，然后使用惰性氣體進行深刻蝕。這種刻蝕方法在半導體器件制造中得到了廣泛應用，可實現(xiàn)精度在上微米（NM）量級以上的高精度加工。主要特點是能夠控制等離子體的氣氛、壓力、功率、速率等參...

微波等離子去膠機是一種利用微波輻射和等離子技術將膠水分解、熱分解或氧化分解成氣態(tài)或液態(tài)的設備，主要用于去除化學膠、丙烯酸膠、雙面膠、硅膠等膠水。一、工作原理工作原理是：使用微波輻射將膠水加熱，膠水分子振動并迅速升溫，膠水熱解并釋放出揮發(fā)性有機物，形成等離子體，并通過化學反應消除揮發(fā)性有機物，使膠水揮發(fā)，從而達到去除膠層的目的。二、使用方法1.準備工作（1）將微波等離子去膠機放置在干燥、通風位置。（2）檢查機器是否正常運行，確認電源和加熱是正常的。（3）將待去除膠水的物品放在去...

等離子去膠機具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大專院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國外。等離子去膠機主要性能：1.開放式設計，可快速加載和卸載晶圓。2.基片放置在石英上，以避免濺射/再沉積電極材料3.通過頂部電極上的“蓮蓬頭”進氣口將氣體注入工藝室4.電感耦合等離子體(ICP)和電極的獨立射頻發(fā)生器提供對離子能量和離子密...

微波等離子清洗機是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。微波等離子清洗機的優(yōu)勢：1、清洗對象經(jīng)清洗機之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高...

光學鍍膜系統(tǒng)無論是無機材料還是有機材料制成的眼鏡片，在日常的使用中，由于與灰塵或砂礫（氧化硅）的摩擦都會造成鏡片磨損，在鏡片表面產(chǎn)生劃痕。與玻璃片相比，有機材料制成的硬性度比較低，更易產(chǎn)生劃痕。通過顯微鏡，我們可以觀察到鏡片表面的劃痕主要分為二種，一是由于砂礫產(chǎn)生的劃痕，淺而細小，戴鏡者不容易察覺；另一種是由較大砂礫產(chǎn)生的劃痕，深且周邊粗糙，處于中心區(qū)域則會影響視力。光學鍍膜系統(tǒng)特點分類：主要的光學薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等，它們在國民經(jīng)濟和...

熱真空環(huán)境模擬試驗設備用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環(huán)套件下測試器件或樣品。該系統(tǒng)具有計算機控制、安全連鎖，以及多級密碼授權(quán)訪問保護的功能。它可以用于超過24小時的圈子全自動熱、冷循環(huán)情況下測試器件/樣品，溫度條件通過程序定義。該系統(tǒng)通常的應用之一是太空模擬。系統(tǒng)腔體的大致尺寸為：直徑24"，長度43"。帶有一個16"x32"的滑動加熱平，可以冷卻到零下100攝氏度。熱真空平臺也可以加熱到150攝氏度，具有高度的均勻度。在去邊3cm后整個平臺的溫度均勻度可達/-1攝氏度。...